十年。

一臺光刻機的壽命也不僅僅在于一兩代芯片，如果用193nm深紫外光刻機也是可以做到10nm乃至7nm芯片的生產(chǎn)的，只是工藝難度實(shí)現起來(lái)相對復雜，成本較高，比如采用自對準四次成型技術(shù)，就可以得到更加致密的結構，不過(guò)因為芯片層級的工藝變得復雜，需要更多掩模版和材料，所以用193nm光刻機生產(chǎn)7nm芯片非常不劃算，所以到了這個(gè)程度必須上EUV光刻機。

光刻機作為芯片的核心制造設備，也是當前最復雜的精密儀器之一。其實(shí)光刻機不僅可以用于芯片生產(chǎn)，還可以用于封裝和用于LED制造領(lǐng)域。

　　目前我國高端的光刻機主要是從國外進(jìn)口的，而且一臺光刻機價(jià)值不菲，甚至高達上億美元。

　　關(guān)于光刻機的壽命網(wǎng)上也沒(méi)有具體的相關(guān)資料說(shuō)明，所以暫時(shí)無(wú)法知曉。