磁控濺射陶瓷膜是一種通過(guò)物理氣相沉積技術(shù)制備的薄膜。該技術(shù)是利用高能離子轟擊靶材表面，使得靶材原子或分子從靶材表面剝離并沉積在基底上的一種方法。其中的"磁控"指的是在制備過(guò)程中，使用了外加磁場(chǎng)來(lái)調節離子轟擊靶材表面的角度和方向；"濺射"指的是由于離子轟擊而產(chǎn)生的原子或分子從靶材表面剝離并沉積在基底上。

該技術(shù)可以制備出具有高硬度、高耐磨性、高化學(xué)穩定性等特點(diǎn)的陶瓷薄膜。這些特點(diǎn)使得該膜廣泛應用于電子、光學(xué)、機械等領(lǐng)域，如半導體器件、涂層保護、摩擦削減等方面。

采用了多層聚酯膜技術(shù)。將240層的聚酯膜疊加在一起，制成僅有0.05mm厚的隔熱膜，它不僅透光性好，同時(shí)隔熱性和使用壽命也都很好，并且還沒(méi)有電磁信號干擾等特點(diǎn)。

氮化鈦納米陶瓷材質(zhì)不阻隔信號，確保信號穩定無(wú)憂(yōu)，側后擋使用高性能快干粘合劑，3小時(shí)快速干燥。